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「伟大的掩饰」主题群展

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时间2025年11月6日 - 2026年4月26日
11:00 - 20:00 提前30分钟停止入馆
周一闭馆 周二仅限会员和团体参观
展馆闭馆中 | 上海外滩美术馆
地址上海市黄浦区虎丘路20号
费用Free(周末及节假日需预约)

⚠️ 请注意 10 天内闭馆时间

2025年9月29日至11月5日闭馆布展

本次展览聚焦革命运动遗绪中的当代艺术实践,汇集16位(组)艺术家的影像、绘画、剧场、织物与档案研究等作品,探讨跨国黑人激进思想的物质与审美流通,以及革命姿态如何在历史碎片中重新生成。

展览标题取自加勒比作家苏珊·塞泽尔(Suzanne Césaire)的同题文集《伟大的掩饰》。她指出,热带的自然美景掩盖了殖民暴力的现实——这一「掩饰」的隐喻成为本次展览的出发点。

展览以非线性叙事为脉络,引领观众穿梭于四层展示空间,试图揭示「谁被掩饰?」「如何掩饰?」「 为何掩饰?」。参展艺术家借鉴黑人意识与超现实主义传统,将美学用作一种传播、唤醒、揭示的手段,同时发起对革命未竟事业的持续追问。

部分展品

《杜波依斯机器》,Pope.L,2013年



《激进二重奏》,奥涅卡·伊圭,2023年



《扭曲词场》,王拓,2019年



展览海报


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