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印刷/版画/平面设计中的断层 1957–1979

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时间2024年5月30日 - 8月25日 10:00 - 18:00
周五延长至20:00 提前30分钟停止入馆
周一闭馆(7月15日、8月12日除外)
7月16日、8月13日闭馆
展馆京都国立近代美术馆
地址京都左京区岡崎円勝寺町
费用全票:430日元 大学生:130日元 高中生以下免费

在战后的日本,随着大众传播时代的来临和印刷技术的飞速发展,艺术与大众文化之间的联系日益紧密,印刷、版画与平面设计之间的关系也日益引发人们的关注与探讨。三者相互交错重叠,但彼此之间又存在着决定性的界限,版画家与设计师不断通过实践去探索三者间的联系与差异。

在这一背景下,1957年开始的「东京国际版画双年展」为当时的版画家和设计师提供了一个展示、交流的重要平台。该双年展以东京国立近代美术馆、京都国立近代美术馆为会场,先后共举办了11届,1979年以后停办。

本次展览以「东京国际版画双年展」为中心,汇集参展艺术家的作品,通过探究1957–1979年间版画和平面设计在各种印刷品中的交集,重新审视印刷技术提供的可能性,及其在今天的意义。

部分展品

《夏 1》,池田满寿夫,1964年



《The Spy Surrounds the Spy》,井田照一,1974年



《铅笔 2-3》,木村秀树,1974年



《「第6回东京国际版画双年展」海报》,横尾忠则,1968年



《「第8回东京国际版画双年展」海报》,杉浦康平,1972年


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